أجزاء معالجة من السيليكون عالي النقاء

رقائق السيليكون عبارة عن رقائق رقيقة مستديرة مصنوعة من قضبان سيليكون أحادية البلورة عالية النقاء، وذلك من خلال عمليات معالجة دقيقة تشمل القطع والطحن والحفر والتلميع. وهي المادة الأساسية لتصنيع رقائق أشباه الموصلات. وباعتبارها حاملة للدوائر المتكاملة، تحتوي رقائق السيليكون على مليارات الترانزستورات والوصلات البينية المُشكّلة على سطحها من خلال عمليات مثل الطباعة الضوئية والحفر والترسيب وزرع الأيونات. وفي النهاية، تُقطّع وتُغلّف في رقائق. ويُحدّد نقاء رقائق السيليكون، واستوائها، ونظافة سطحها، وجودة بلورتها، بشكل مباشر، معدل الإنتاجية وأداء الجهاز في تصنيع الرقائق. تُصنع رقائق السيليكون الخاصة بشركتنا من قضبان سيليكون أحادية البلورة عالية النقاء، يتم إنتاجها بتقنية MCZ المتقدمة، من خلال عمليات مثل القطع متعدد الأسلاك، والطحن من الجانبين، والحفر الكيميائي، والتلميع الدقيق. تصل نقاوة المنتج إلى أكثر من 99.9999999%، ويتم التحكم في مستوى التسطيح (TTV) بحيث لا يتجاوز ثلاثة ميكرومترات، بينما تصل خشونة السطح إلى 0.1 نانومتر. تتراوح أقطار المنتج من بوصتين إلى اثنتي عشرة بوصة، ونقدم أنواعًا مختلفة تشمل الرقائق المصقولة، والرقائق المُلدّنة، والرقائق المُرَسَّبة. كما يُمكننا توفير رقائق سيليكون مُخصصة بأنواع توصيلية ونطاقات مقاومة واتجاهات بلورية مختلفة، وفقًا لاحتياجات العملاء.

حلقات السيليكون هي مكونات سيليكونية حلقية الشكل، مصنوعة من سيليكون أحادي البلورة أو متعدد البلورات عالي النقاء، باستخدام عمليات تصنيع دقيقة. تُعدّ هذه الحلقات من المكونات الاستهلاكية الأساسية في معدات حفر أشباه الموصلات ومعالجة البلازما. تُركّب حلقات السيليكون عادةً في غرف التفاعل لمعدات معالجة أشباه الموصلات، مثل آلات حفر البلازما، وآلات الترسيب الفيزيائي للبخار (PVD)، وآلات الترسيب الكيميائي للبخار (CVD)، حيث تعمل على تركيز البلازما، وحماية الجدران الداخلية للغرفة، وتوحيد توزيع المجال الكهربائي، والتحكم في تجانس العملية. تستفيد حلقات السيليكون من نقاء السيليكون أحادي البلورة العالي، ومقاومته للتآكل الناتج عن البلازما، وموصليته الحرارية والكهربائية الممتازة، للحفاظ على خصائصه الفيزيائية والكيميائية مستقرة في بيئات البلازما القاسية. تستخدم منتجاتنا من حلقات السيليكون سيليكونًا عالي النقاء، أحادي البلورة أو متعدد البلورات، مُنتَجًا بتقنية MCZ فاراد المتطورة. تُصنَّع هذه الحلقات عبر عمليات تصنيع دقيقة متعددة، تشمل القطع والطحن والحفر والتلميع، ما يُحقق نقاءً يزيد عن 99.99999999%، ودقة أبعاد في حدود ±0.1 مم، وخشونة سطح أقل من 0.1 ميكرومتر. تشمل مواصفات المنتج أحجامًا مختلفة من حلقات التركيز، والحلقات الواقية، وحلقات الحواف لأجهزة الحفر من 2 بوصة إلى 12 بوصة، كما تتوفر تصاميم حسب الطلب.

قضبان السيليكون عبارة عن بلورات سيليكون أسطوانية عالية النقاء تُنمى باستخدام طريقتي تشوخرالسكي (CZ) أو صهر المناطق، وهي مادة أساسية في تصنيع رقائق أشباه الموصلات. تُصنع قضبان السيليكون من سيليكون متعدد البلورات عالي الجودة، يُصهر في درجات حرارة عالية ثم يُوجه بواسطة بلورات بذرة في ظل ظروف نمو مضبوطة لتشكيل قضبان سيليكون أحادية البلورة ذات بنية بلورية كاملة أو قضبان سيليكون متعددة البلورات تتكون من حبيبات متعددة. تتميز قضبان السيليكون أحادية البلورة بتوجيه بلوري منتظم وبنية شبكية خالية من العيوب، مما يجعلها مناسبة لتصنيع ركائز رقائق أشباه الموصلات المتطورة مثل الدوائر المتكاملة وأجهزة الطاقة. أما قضبان السيليكون متعددة البلورات، نظرًا لميزتها من حيث التكلفة، فتُستخدم بشكل رئيسي في الخلايا الكهروضوئية وبعض أجهزة أشباه الموصلات منخفضة التكلفة. تُصنع قضبان السيليكون الخاصة بشركتنا باستخدام تقنية MCZ (التشوخرالسكي المغناطيسي) المتطورة، مع تحكم دقيق في تجانس المقاومة الكهربائية ضمن نطاق 5% ونقاء يتجاوز 99.9999999%. تتراوح أقطار المنتجات من بوصتين إلى اثنتي عشرة بوصة، ويمكننا توفير قضبان سيليكون مُخصصة بأنواع توصيل مختلفة (النوع N/النوع P)، ونطاقات مقاومة كهربائية، واتجاهات بلورية متنوعة وفقًا لاحتياجات العملاء.