Piezas procesadas de silicio de alta pureza

Las obleas de silicio son láminas delgadas y redondas, fabricadas a partir de varillas de silicio monocristalino de alta pureza mediante procesos de precisión que incluyen corte, rectificado, grabado y pulido. Son el material base para la fabricación de chips semiconductores. Como soporte de los circuitos integrados, las obleas de silicio presentan miles de millones de transistores e interconexiones formados en su superficie mediante procesos como fotolitografía, grabado, deposición e implantación iónica. Finalmente, se cortan y se empaquetan en chips. La pureza, la planitud, la limpieza superficial y la calidad cristalina de las obleas de silicio determinan directamente el rendimiento y la eficacia de los dispositivos en la fabricación de chips. Las obleas de silicio de nuestra empresa se fabrican a partir de varillas de silicio monocristalino de alta pureza, producidas mediante la avanzada tecnología MCZ Farad, a través de procesos como el corte multihilo, el rectificado de doble cara, el grabado químico y el pulido de precisión. La pureza del producto puede alcanzar más del 99,9999999%, la planitud (TTV) se controla por debajo de tres micrómetros y la rugosidad superficial puede ser tan baja como 0,1 nanómetros. Los diámetros de los productos varían de dos a doce pulgadas, ofreciendo diversos tipos, incluyendo obleas pulidas, recocidas y epitaxiales. También podemos proporcionar obleas de silicio personalizadas con diferentes tipos de conductividad, rangos de resistividad y orientaciones cristalinas según las necesidades del cliente.

Los anillos de silicio son componentes de silicio con forma de anillo, fabricados mediante mecanizado de precisión a partir de silicio monocristalino o policristalino de alta pureza. Son componentes consumibles clave en equipos de grabado de semiconductores y procesamiento por plasma. Los anillos de silicio se instalan habitualmente en las cámaras de reacción de equipos de procesamiento de semiconductores, como máquinas de grabado por plasma, deposición física de vapor (PVD) y deposición química de vapor (CVD), donde sirven para enfocar el plasma, proteger las paredes internas de la cámara, uniformizar la distribución del campo eléctrico y controlar la uniformidad del proceso. Los anillos de silicio aprovechan la alta pureza, la resistencia a la corrosión por plasma y la excelente conductividad térmica y eléctrica del silicio monocristalino para mantener propiedades fisicoquímicas estables en entornos de plasma exigentes. Los anillos de silicio de nuestra empresa utilizan silicio monocristalino o policristalino de alta pureza, producido mediante la avanzada tecnología MCZ Faradio. Se fabrican mediante múltiples procesos de mecanizado de precisión, que incluyen corte, rectificado, perforación y pulido, logrando una pureza superior al 99,99999999%, una precisión dimensional de ±0,1 mm y una rugosidad superficial inferior a 0,1 micrómetros. Las especificaciones del producto abarcan diversos tamaños de anillos de enfoque, anillos protectores y anillos de borde para equipos de grabado de 2 a 12 pulgadas, y también ofrecemos diseños personalizados.

Las varillas de silicio son cristales cilíndricos de silicio de alta pureza, cultivados mediante los métodos de fusión Czochralski (CZ) o de fusión zonal, y constituyen un material fundamental en la fabricación de obleas semiconductoras. Estas varillas se elaboran a partir de silicio policristalino de grado electrónico, que se funde a altas temperaturas y, posteriormente, se guía mediante cristales semilla bajo condiciones de crecimiento controladas para formar varillas de silicio monocristalino con una estructura cristalina completa o varillas de silicio policristalino compuestas por múltiples granos. Las varillas de silicio monocristalino presentan una orientación cristalina uniforme y una estructura reticular libre de defectos, lo que las hace idóneas para la fabricación de sustratos de chips semiconductores de alta gama, como circuitos integrados y dispositivos de potencia. Las varillas de silicio policristalino, debido a su menor coste, se utilizan principalmente en células fotovoltaicas y algunos dispositivos semiconductores de gama baja. Las varillas de silicio de nuestra empresa se cultivan mediante la avanzada tecnología MCZ (Czochralski Magnético), con una uniformidad de resistividad controlada dentro del 5 % y una pureza superior al 99,9999999 %. Los diámetros de los productos varían desde dos pulgadas hasta doce pulgadas, y podemos proporcionar varillas de silicio personalizadas con diferentes tipos de conductividad (tipo N/tipo P), rangos de resistividad y orientaciones cristalinas según las necesidades del cliente.