بوتقات الكوارتز عبارة عن أوعية شفافة أو شبه شفافة مصنوعة من رمل كوارتز عالي النقاء باستخدام عملية صهر القوس الكهربائي عند درجات حرارة عالية. وهي من المواد الاستهلاكية الأساسية في عملية نمو بلورات السيليكون أحادية البلورة لأشباه الموصلات. تتميز بوتقات الكوارتز بنقائها العالي للغاية، وقوتها الممتازة عند درجات الحرارة العالية، وثباتها الحراري الجيد. تُستخدم بشكل أساسي في أفران تشوخرالسكي لنمو بلورات السيليكون أحادية البلورة، حيث يتم صهر مادة السيليكون وتحويلها إلى سيليكون منصهر عند درجات حرارة تتجاوز 1400 درجة مئوية، مما يوفر بيئة صهر نظيفة لسحب قضبان السيليكون أحادية البلورة. تُقسم بوتقات الكوارتز إلى فئتين رئيسيتين: بوتقات الكوارتز الاصطناعية وبوتقات الكوارتز الطبيعية. تتميز بوتقات الكوارتز الاصطناعية بنقائها العالي ومحتواها المنخفض من الهيدروكسيل، مما يجعلها مناسبة لعملية سحب بلورات السيليكون أحادية البلورة كبيرة الحجم. تُصنع بوتقات الكوارتز الخاصة بشركتنا باستخدام رمل كوارتز عالي النقاء مستورد كمادة خام، وذلك من خلال معدات صهر القوس الكهربائي المتطورة وعمليات الإنتاج النظيفة. يمكن أن تصل نقاوة المنتج إلى أكثر من 99.99%، ويغطي نطاق الحجم احتياجات أفران البلورات الأحادية من 8 بوصات إلى 32 بوصة.

تُعدّ أجزاء الجرافيت عالي النقاء مكونات أساسية في عمليات تصنيع أشباه الموصلات، حيث تُصنع من الجرافيت عالي النقاء كمادة أساسية من خلال عمليات تشغيل دقيقة. ويُقصد بالجرافيت عالي النقاء مواد الجرافيت التي تحتوي على نسبة كربون ≥ 99.99%، والتي تتميز بمزايا عديدة منها القوة العالية، والكثافة العالية، ومقاومة درجات الحرارة العالية، ومقاومة الأكسدة، والتوصيل الكهربائي والحراري الممتاز، ومقاومة الصدمات الحرارية الجيدة، والتشحيم الذاتي، ومقاومة التآكل، وسهولة التشغيل الدقيق. في صناعة أشباه الموصلات، تُستخدم أجزاء الجرافيت عالي النقاء بشكل رئيسي في مراحل المعالجة الأساسية، مثل الأنظمة الحرارية لأفران نمو البلورات الأحادية، ومعدات الترسيب الطبقي، وأجهزة زرع الأيونات، ومعدات الحفر. وتشمل أشكال المنتجات المختلفة بوتقات الجرافيت، وسخانات الجرافيت، وأقطاب الجرافيت، وقوارب الجرافيت، ومستقبلات الجرافيت، ودروع الجرافيت، وفوهات الجرافيت، وبطانات الجرافيت.

رقائق السيليكون عبارة عن رقائق رقيقة مستديرة مصنوعة من قضبان سيليكون أحادية البلورة عالية النقاء، وذلك من خلال عمليات معالجة دقيقة تشمل القطع والطحن والحفر والتلميع. وهي المادة الأساسية لتصنيع رقائق أشباه الموصلات. وباعتبارها حاملة للدوائر المتكاملة، تحتوي رقائق السيليكون على مليارات الترانزستورات والوصلات البينية المُشكّلة على سطحها من خلال عمليات مثل الطباعة الضوئية والحفر والترسيب وزرع الأيونات. وفي النهاية، تُقطّع وتُغلّف في رقائق. ويُحدّد نقاء رقائق السيليكون، واستوائها، ونظافة سطحها، وجودة بلورتها، بشكل مباشر، معدل الإنتاجية وأداء الجهاز في تصنيع الرقائق. تُصنع رقائق السيليكون الخاصة بشركتنا من قضبان سيليكون أحادية البلورة عالية النقاء، يتم إنتاجها بتقنية MCZ المتقدمة، من خلال عمليات مثل القطع متعدد الأسلاك، والطحن من الجانبين، والحفر الكيميائي، والتلميع الدقيق. تصل نقاوة المنتج إلى أكثر من 99.9999999%، ويتم التحكم في مستوى التسطيح (TTV) بحيث لا يتجاوز ثلاثة ميكرومترات، بينما تصل خشونة السطح إلى 0.1 نانومتر. تتراوح أقطار المنتج من بوصتين إلى اثنتي عشرة بوصة، ونقدم أنواعًا مختلفة تشمل الرقائق المصقولة، والرقائق المُلدّنة، والرقائق المُرَسَّبة. كما يُمكننا توفير رقائق سيليكون مُخصصة بأنواع توصيلية ونطاقات مقاومة واتجاهات بلورية مختلفة، وفقًا لاحتياجات العملاء.

حلقات السيليكون هي مكونات سيليكونية حلقية الشكل، مصنوعة من سيليكون أحادي البلورة أو متعدد البلورات عالي النقاء، باستخدام عمليات تصنيع دقيقة. تُعدّ هذه الحلقات من المكونات الاستهلاكية الأساسية في معدات حفر أشباه الموصلات ومعالجة البلازما. تُركّب حلقات السيليكون عادةً في غرف التفاعل لمعدات معالجة أشباه الموصلات، مثل آلات حفر البلازما، وآلات الترسيب الفيزيائي للبخار (PVD)، وآلات الترسيب الكيميائي للبخار (CVD)، حيث تعمل على تركيز البلازما، وحماية الجدران الداخلية للغرفة، وتوحيد توزيع المجال الكهربائي، والتحكم في تجانس العملية. تستفيد حلقات السيليكون من نقاء السيليكون أحادي البلورة العالي، ومقاومته للتآكل الناتج عن البلازما، وموصليته الحرارية والكهربائية الممتازة، للحفاظ على خصائصه الفيزيائية والكيميائية مستقرة في بيئات البلازما القاسية. تستخدم منتجاتنا من حلقات السيليكون سيليكونًا عالي النقاء، أحادي البلورة أو متعدد البلورات، مُنتَجًا بتقنية MCZ فاراد المتطورة. تُصنَّع هذه الحلقات عبر عمليات تصنيع دقيقة متعددة، تشمل القطع والطحن والحفر والتلميع، ما يُحقق نقاءً يزيد عن 99.99999999%، ودقة أبعاد في حدود ±0.1 مم، وخشونة سطح أقل من 0.1 ميكرومتر. تشمل مواصفات المنتج أحجامًا مختلفة من حلقات التركيز، والحلقات الواقية، وحلقات الحواف لأجهزة الحفر من 2 بوصة إلى 12 بوصة، كما تتوفر تصاميم حسب الطلب.

قضبان السيليكون عبارة عن بلورات سيليكون أسطوانية عالية النقاء تُنمى باستخدام طريقتي تشوخرالسكي (CZ) أو صهر المناطق، وهي مادة أساسية في تصنيع رقائق أشباه الموصلات. تُصنع قضبان السيليكون من سيليكون متعدد البلورات عالي الجودة، يُصهر في درجات حرارة عالية ثم يُوجه بواسطة بلورات بذرة في ظل ظروف نمو مضبوطة لتشكيل قضبان سيليكون أحادية البلورة ذات بنية بلورية كاملة أو قضبان سيليكون متعددة البلورات تتكون من حبيبات متعددة. تتميز قضبان السيليكون أحادية البلورة بتوجيه بلوري منتظم وبنية شبكية خالية من العيوب، مما يجعلها مناسبة لتصنيع ركائز رقائق أشباه الموصلات المتطورة مثل الدوائر المتكاملة وأجهزة الطاقة. أما قضبان السيليكون متعددة البلورات، نظرًا لميزتها من حيث التكلفة، فتُستخدم بشكل رئيسي في الخلايا الكهروضوئية وبعض أجهزة أشباه الموصلات منخفضة التكلفة. تُصنع قضبان السيليكون الخاصة بشركتنا باستخدام تقنية MCZ (التشوخرالسكي المغناطيسي) المتطورة، مع تحكم دقيق في تجانس المقاومة الكهربائية ضمن نطاق 5% ونقاء يتجاوز 99.9999999%. تتراوح أقطار المنتجات من بوصتين إلى اثنتي عشرة بوصة، ويمكننا توفير قضبان سيليكون مُخصصة بأنواع توصيل مختلفة (النوع N/النوع P)، ونطاقات مقاومة كهربائية، واتجاهات بلورية متنوعة وفقًا لاحتياجات العملاء.