Pièces traitées en silicium de haute pureté

Les plaquettes de silicium sont des disques minces et ronds, fabriqués à partir de barres de silicium monocristallin de haute pureté par un procédé de précision comprenant la découpe, le meulage, la gravure et le polissage. Elles constituent le substrat fondamental pour la fabrication des puces semi-conductrices. Support des circuits intégrés, les plaquettes de silicium comportent des milliards de transistors et d'interconnexions formés à leur surface par des procédés tels que la photolithographie, la gravure, le dépôt et l'implantation ionique. Enfin, elles sont découpées et encapsulées en puces. La pureté, la planéité, la propreté de surface et la qualité cristalline des plaquettes de silicium déterminent directement le rendement et les performances des dispositifs lors de la fabrication des puces. Nos plaquettes de silicium sont fabriquées à partir de barres de silicium monocristallin de haute pureté, produites grâce à la technologie MCZ farad de pointe. Le processus de fabrication comprend la découpe multifilaire, le meulage double face, la gravure chimique et le polissage de précision. La pureté du produit peut atteindre plus de 99,9999999 %, la planéité (TTV) est inférieure à trois micromètres et la rugosité de surface peut descendre jusqu'à 0,1 nanomètre. Les diamètres des plaquettes varient de deux à douze pouces, et nous proposons différents types de plaquettes : polies, recuites et épitaxiées. Nous pouvons également fournir des plaquettes de silicium personnalisées, avec différents types de conductivité, gammes de résistivité et orientations cristallines, selon les besoins de nos clients.

Les anneaux de silicium sont des composants annulaires en silicium monocristallin ou polycristallin de haute pureté, usinés avec précision. Ce sont des consommables essentiels pour les équipements de gravure et de traitement plasma des semi-conducteurs. Ils sont généralement installés dans les chambres de réaction des équipements de traitement des semi-conducteurs, tels que les machines de gravure plasma, de dépôt physique en phase vapeur (PVD) et de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Leur rôle est de focaliser le plasma, de protéger les parois internes de la chambre, d'uniformiser la distribution du champ électrique et de garantir l'homogénéité du processus. Grâce à la haute pureté, à la résistance à la corrosion par plasma et à l'excellente conductivité thermique et électrique du silicium monocristallin, les anneaux de silicium conservent des propriétés physico-chimiques stables même dans des environnements plasma difficiles. Nos anneaux en silicium sont fabriqués à partir de silicium monocristallin ou polycristallin de haute pureté, produit grâce à la technologie faradique MCZ de pointe. Leur fabrication repose sur de multiples procédés d'usinage de précision, incluant la découpe, le meulage, le perçage et le polissage, garantissant une pureté supérieure à 99,99999999 %, une précision dimensionnelle de ±0,1 mm et une rugosité de surface inférieure à 0,1 micromètre. Notre gamme comprend des anneaux de focalisation, de protection et de bord de différentes tailles, compatibles avec les équipements de gravure de 2 à 12 pouces. Des conceptions sur mesure sont également disponibles.

Les barres de silicium sont des cristaux de silicium cylindriques de haute pureté, obtenus par les méthodes de Czochralski (CZ) ou de fusion de zone. Elles constituent un matériau essentiel à la fabrication des plaquettes de semi-conducteurs. Ces barres sont fabriquées à partir de silicium polycristallin de qualité électronique, fondu à haute température puis guidé par des germes cristallins dans des conditions de croissance contrôlées. Ce procédé permet d'obtenir des barres de silicium monocristallines à structure cristalline complète ou des barres de silicium polycristallin composées de plusieurs grains. Les barres de silicium monocristallines présentent une orientation cristalline uniforme et une structure cristalline sans défauts, ce qui les rend idéales pour la fabrication de substrats destinés aux puces semi-conductrices haut de gamme, telles que les circuits intégrés et les dispositifs de puissance. Les barres de silicium polycristallin, grâce à leur coût avantageux, sont principalement utilisées dans les cellules photovoltaïques et certains dispositifs semi-conducteurs d'entrée de gamme. Les barres de silicium de notre entreprise sont élaborées grâce à la technologie MCZ (Czochralski magnétique) de pointe, avec une uniformité de résistivité contrôlée à 5 % près et une pureté supérieure à 99,9999999 %. Les diamètres des produits varient de deux à douze pouces, et nous pouvons fournir des tiges de silicium personnalisées avec différents types de conductivité (type N/type P), plages de résistivité et orientations cristallines selon les besoins du client.