硅环是由高纯度单晶或多晶硅经精密加工制成的环状硅元件,是半导体刻蚀和等离子体处理设备中的关键耗材。硅环通常安装在等离子刻蚀机、物理气相沉积(PVD)机和化学气相沉积(CVD)机等半导体工艺设备的反应腔内,用于聚焦等离子体、保护腔体内壁、均匀化电场分布以及控制工艺均匀性。硅环利用单晶硅的高纯度、耐等离子体腐蚀性以及优异的导热性和导电性,在严苛的等离子体环境中保持稳定的物理化学性质。
我公司生产的硅环产品采用先进的MCZ法拉技术制造的高纯度单晶或多晶硅。产品经过切割、研磨、钻孔和抛光等多道精密加工工序,纯度高达99.99999999%,尺寸精度在±0.1毫米以内,表面粗糙度低于0.1微米。产品规格涵盖适用于2英寸至12英寸蚀刻设备的各种尺寸的聚焦环、保护环和边缘环,并可提供定制设计。
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