半導体製造プロセス消耗品

石英るつぼは、高純度石英砂を高温アーク溶解法で製造した半透明または透明な容器です。半導体単結晶シリコン成長プロセスにおける重要な消耗品です。石英るつぼは、極めて高い純度、優れた高温強度、良好な熱安定性を備えています。主にチョクラルスキー法による単結晶成長炉で使用され、多結晶シリコン原料を保持し、1400℃を超える温度でシリコン原料を溶融してシリコン溶融物を作り、単結晶シリコン棒を引き出すための清浄な溶融環境を提供します。石英るつぼは、合成石英るつぼと天然石英るつぼの2種類に大別されます。合成石英るつぼは、純度が高く水酸基含有量が低いため、大型単結晶シリコンの引き出しプロセスに適しています。当社の石英るつぼは、輸入した高純度石英砂を原料とし、高度なアーク溶解装置とクリーンな製造プロセスを経て製造されています。製品の純度は99.99%以上に達し、サイズ範囲は8インチから32インチまでの単結晶炉のニーズに対応します。

高純度グラファイト部品は半導体製造工程の中核部品であり、高純度グラファイトを基材として精密加工によって製造されます。高純度グラファイトとは、炭素含有量が99.99%以上のグラファイト材料を指し、高強度、高密度、耐高温性、耐酸化性、優れた電気伝導性および熱伝導性、良好な耐熱衝撃性、自己潤滑性、耐腐食性、精密加工の容易性といった利点を有しています。半導体業界では、高純度グラファイト部品は主に単結晶成長炉の熱処理システム、エピタキシャル装置、イオン注入装置、エッチング装置などの主要な工程で使用されます。具体的な製品形態としては、グラファイトるつぼ、グラファイトヒーター、グラファイト電極、グラファイトボート、グラファイトサセプター、グラファイトシールド、グラファイトノズル、グラファイトライナーなどがあります。